FUENTES DE LUZ
  • Láser Excímero de ArF; Lambda Physik 220i; (250 mJ @ 193 nm, max. 200 Hz)
  • Láser Excímero de ArF; Lambda Physik Compex 205; (300 mJ @ 193 nm, max. 10 Hz)
  • Láser de Nd:YAG; Spectra Physics Quanta-Ray INDI-HG; (50mJ@266nm, 150mJ@355nm, 200mJ@532nm, 450mJ@1064nm, Q-switch: 5 -8 ns, 10Hz)
  • Lámpara de Excímero de Xe2; ABB-UVigo; (172 nm)
  • Lámpara de Excímero de Xe2; Heraeus Noblelight; (172 nm)
  • Láser de He-Ne y varios láseres de diodo para alineamiento
  • Sistema láser de femtosegundos de Spectra Physics (compartido con el grupo «Metrología Óptica»)
    • Oscilador; MillenniaPro-Tsunami; (5 nJ @ 790 nm, 35 fs)
    • Amplificador regenerativo; Empower-Spitfire; (0,7 mJ @ 790 nm, 37 fs)
    • Amplificador paramétrico óptico; OPA800CF-HGII (0,07 mJ @ < 1000 - 3000 nm, 0,001 - 0,025 mJ @ 300 - 1200 nm, 40 fs)
ÓPTICA Y MATERIAL OPTOMECÁNICO
  • Bancos ópticos con montantes convencionales y de precisión para componentes ópticos
  • Mesas xyz manuales y motorizadas de alta precisión en atmósfera inerte (Newport)
  • Sistema de proyección de máscaras para 193 nm (reducción x5, 0-1,5 J/cm2)
  • 2 Homogenizadores de haz láser para radiación de 193 nm
    • Microlas (Tamaño de spot 4×4 mm2 – 6×6 mm2)
    • Exitech EX-HS-700D (10 diferentes tamaños de spot 0.4 x 0.8 mm2 – 5.2 x 10.5 mm2; 0-3mJ/cm2 en aire o gas inerte, 0-1J/cm2 en vacío)
HORNOS, EQUIPAMIENTOS PARA ENSAYOS BIOLÓGICOS Y QUÍMICOS
  • Horno para oxidación de Si
  • Horno para pirólisis
  • Horno para infiltración de Si
  • Calentador de inducción con pirómetro; Ambrell EasyHeat & Micro epsilon
  • Estufa para experimentos biomiméticos
  • Cabina para operar con compuestos tóxicos
  • Estufa de secado; Selecta Incudigit 80C (max.80ºC)
  • Autoclave para esterilización a vapor; Selecta Presoclave II 75 (75 l, máx. 150ºC, máx. 2.5 bar)
  • Congelador a temperatura ultra baja; Sanyo VIP+ MDF-C8V1 (mín.-80ºC)
  • Campana de flujo laminar vertical; Telstar V100 con filtros HEPA y esterilizdador UV (en el Biolab)
  • Campana de flujo laminar vertical; Telstar AV30/70 con filtros HEPA y filtros de salida (en el Laserlab)
  • Incubadora CO2; MCO19AIC (5% CO2, 37ºC)
  • Aspiradora con filro de agua (HEPA); Kärcher D5600
SISTEMAS DE CONTROL DE GASES, ALTO VACÍO Y DE DEPÓSITO
  • Sistema de control de gases de procesamiento (SiH4, Si2H6, GeH4, B2H6, C2H4, NH3, N2O, F2, H2, H2O, He, Ar, Ne)
  • 2 Sistemas de alto vacío (Presión base 10E-10 mbar) para procesamiento de biomateriales mediante PLD (Pulsed Laser Deposition)
  • Sistema de alto vacío (Presión base 10E-6 mbar) para modificar superficies mediante radiación láser
  • Sistema de alto vacío (Presión base 10E-12 mbar )para medir efusión de gases
  • Evaporadora térmica (Presión base 10E-8 mbar)
  • Spin coater; Laurell WZ-650- 23NPP
  • Detector de fugas; Balzers HLT150
  • Unidades de filtración de aire (HEPA), Telstar AVF-60, AVF-120, Cleanstar
  • Purificadores de aire (HEPA) Bionair
  • Sistemas de alto vacío (Presión base 10E-10 mbar) para procesamiento de semiconductores y dieléctricos mediante
    • LCVD (Laser induced Chemical Vapor Deposition)
    • ELC (Excimer Laser assisted Crystallisation) y
    • PLIE (Pulsed Laser Induced Epitaxy)
DETECTORES, MEDIDORES Y OTRAS FUENTES
  • Diversos detectores ópticos; Ophir PE50-DIF, L150A, Thorlabs PM100D con S130C (400-1100 nm), Scientec AC50HD, Spiricon LBA300PC-Pulnix TM765E, Videocámara Digital Sony DCR-PC-109E, etc.
  • Digital Delay-Pulse generator Model 9600Plus
  • Generador de RF; ENI-HPG-2
  • Generador de campos eléctricos
SISTEMAS DE CARACTERIZACIÓN
  • Sistema de medida de efusión de gases ; Pfeiffer Vacuum Prisma Plus(Masa 1-100)
  • Micro-Raman ; Bruker Ramanscope RFS100; (2W @ 1064nm con objetivos x5, x10, x50 y polarizadores)
  • Raman protatil; B&W TEK i-Raman-785S Raman, BAC 100 Probe (785 nm, 175-3200 cm-1)y videocámara (x20)
  • Elipsómetro; Rudolph Research AutoEl; (3 longitudes de onda)
  • Perfilómetro mecánico; Dektak 3ST
  • Medidor de ángulo de contacto portatil; FIBRO System, Pocketgoniometer
  • Sistema de medidas CV/IV; Keithley 4140B pA,4275A,16055A (prueba con 2 puntas, metodo de Kelvin y van der Pauw para 0-100ºC y en vacío, prueba de 4 puntas)
  • Equipo para medidas TRR (Time Resolved Reflectivity)
  • Microscopio óptico digital; Optika DM(x10, x 40, x100)
  • Lector de microplacas; Biorad iMARK (415, 450, 490, 595, 655 y 750 nm)
  • Microbalanza; COBOS (max. 320 g , +/- 1 mg)
  • Microscopio invertido; Nikon Eclipse TS 100 (x10, x20, x40)
  • Termómetro IR, Sam Outillage
  • Cámara Termográfica; testo 881 (Obj.: 7, 5 mm, 25 mm; Sens. <50mK; -20 - 550 ºC)
Equipos de caracterización ubicados en el C.A.C.T.I.