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FA3 - Grupo Nuevos Materiales

 

Instalaciones y Equipamiento

 

 

Instalaciones

  • Laboratorio de procesamiento de materiales con láseres y lámparas excímeras (Laserlab)
  • Laboratorio de materiales biomórficos
  • Laboratorio de caracterización y pulsos de femtosegundos
  • Laboratorio para cultivos célulares (Biolab)
  • Talleres mecánico y electrónico auxiliares
    (
    compartidos con los grupos "Metrología Óptica" y "Aplicaciones Industriales de los Láseres")
 

Equipamiento

  • Fuentes de luz
    • Láser Excímero de ArF; Lambda Physik 220i; (250 mJ @ 193 nm, max. 200 Hz)
    • Láser Excímero de ArF; Lambda Physik Compex 205; (300 mJ @ 193 nm, max. 10 Hz)
    • Láser de Nd:YAG; Spectra Physics Quanta-Ray INDI-HG;
      (50mJ@266nm, 150mJ@355nm, 200mJ@532nm, 450mJ@1064nm, Q-switch: 5 -8 ns, 10Hz)
    • Lámpara de Excímero de Xe2; ABB-UVigo; (172 nm)
    • Lámpara de Excímero de Xe2; Heraeus Noblelight; (172 nm)
    • Láser de He-Ne y varios láseres de diodo para alineamiento
    • Sistema láser de femtosegundos de Spectra Physics
      (compartido con el grupo "Metrología Óptica")
      • Oscilador; MillenniaPro-Tsunami; (5 nJ @ 790 nm, 35 fs)
      • Amplificador regenerativo; Empower-Spitfire; (0,7 mJ @ 790 nm, 37 fs)
      • Amplificador paramétrico óptico; OPA800CF-HGII
        (0,07 mJ @ < 1000 - 3000 nm, 0,001 - 0,025 mJ @ 300 - 1200 nm, 40 fs)
      • Autocorrelador óptico ; Pulse Scout
      • Componentes óticas (espejos, ventanas) para todo el rango de longitudes de ondas (250 - 3000 nm)
 
  • Sistemas de control de gases, alto vacío y de depósito
    • Sistema de control de gases de procesamiento
      (SiH4, Si2H6, GeH4, B
      2H6, C2H4, NH3, N2O, F2, H2, H20, He, Ar, Ne)
    • Sistema de alto vacío (Presión base 10E-10 mbar) para procesamiento de semiconductores y dieléctricos mediante
      • LCVD (Laser induced Chemical Vapor Deposition),
      • ELC (Excimer Laser assisted Crystallisation) y
      • PLIE (Pulsed Laser Induced Epitaxy)
    • 2 sistemas de alto vacío (Presión base 10E-6 mbar) para procesamiento de biomateriales mediante
      • PLD (Pulsed Laser Deposition)
    • Sistema de alto vacío (Presión base 10E-6 mbar) para modificar superficies mediante radiación láser
    • Sistema de alto vacío (Presión base 10E-12 mbar ) para medir efusión de gases
    • Evaporadora térmica (Presión base 10E-8 mbar)
    • Spin coater; Laurell WZ-650- 23NPP
    • Detector de fugas; Balzers HLT150
    • Unidades de filtración de aire (HEPA), Telstar AVF-60, AVF-120, Cleanstar
    • Purificadores de aire (HEPA) Bionair
 
  • Óptica y material optomecánico
    • Bancos ópticos con montantes convencionales y de precisión para componentes ópticos
    • Mesas xyz manuales y motorizadas de alta precisión en atmósfera inerte (Newport)
    • 2 Homogenizadores de haz láser para radiación de 193 nm
      • Microlas (Tamaño de spot 4x4 mm2 - 6x6 mm2)
      • Exitech EX-HS-700D (10 diferentes tamaños de spot 0.4 x 0.8 mm2 - 5.2 x 10.5 mm2;
        0-3mJ/cm2 en aire o gas inerte, 0-1J/cm2 en vacío)
    • Sistema de proyección de máscaras para 193 nm (reducción x5, 0-1,5 J/cm2)
    • Ventanas, lentes, espejos, máscaras de fase y más componentes para manipular radiación láser VIS y de 193 nm
 
  • Detectores, medidores y otras fuentes
    • Diversos detectores ópticos; Ophir PE50-DIF, L150A, Thorlabs PM100D con S130C (400-1100 nm), Scientec AC50HD, Spiricon LBA300PC-Pulnix TM765E, Videocámara Digital Sony DCR-PC-109E, etc.
    • Digital Delay-Pulse generator Model 9600Plus
    • Generador de RF; ENI-HPG-2
    • Generador de campos eléctricos; UVigo
 
  • Hornos, equipamientos para ensayos biológicos y químicos, y otros equipos
    • Horno para oxidación de Si
    • Horno para pirólisis
    • Horno para infiltración de Si
    • Calentador de inducción con pirómetro; Ambrell EasyHeat & Micro epsilon
    • Estufa para experimentos biomiméticos
    • Cabina para operar con compuestos tóxicos
    • Componentes para ensayos químicos
    • Destiladora de agua, Pobel702.
    • Estufa de secado; Selecta Incudigit 80C (max.80ºC)
    • Baño de agua con regulación y lectura digital, Selecta Precisdigit 6001197 (Max 100ºC)
    • Baño de ultrasonidos con regulación de temperatura, Bandelin Sonorex digitec (max.80ºC)
    • Autoclave para esterilización a vapor; Selecta Presoclave II 75 (75 l, máx. 150ºC, máx. 2.5 bar)
    • Congelador a temperatura ultra baja; Sanyo VIP+ MDF-C8V1 (mín.-80ºC)
    • Campana de flujo laminar vertical; Telstar V100 con filtros HEPA y esterilizdador UV (en el Biolab)
    • Campana de flujo laminar vertical; Telstar AV30/70 con filtros HEPA y filtros de salida (en el Laserlab)
    • Incubadora CO2; MCO19AIC (5% CO2, 37ºC)
    • Centrífuga de laboratorio; Sigma 2-6 (480 ml, 4000 rpm)
    • Agitador orbital de plataforma; Heidoph Rotamax 120
    • Pinzas de vacio; Pelco 520
    • Calefactor;
    • Aspiradora con filro de agua (HEPA); Kärcher D5600
 
  • Sistemas de caracterización
    • Sistema de medida de efusión de gases ; Pfeiffer Vacuum Prisma Plus (Masa 1-100)
    • Micro-Raman ; Bruker Ramanscope RFS100; (2W @ 1064nm con objetivos x5, x10, x50 y polarizadores)
    • Raman protatil; B&W TEK i-Raman-785S Raman, BAC 100 Probe (785 nm, 175-3200 cm-1) y videocámara (x20)
    • Elipsómetro; Rudolph Research AutoEl; (3 longitudes de onda)
    • Perfilómetro mecánico; Dektak 3ST
    • Medidor de ángulo de contacto portatil; FIBRO System, Pocketgoniometer
    • Sistema de medidas CV/IV; Keithley 4140B pA,4275A,16055A (prueba con 2 puntas, metodo de Kelvin y van der Pauw para 0-100ºC y en vacío, prueba de 4 puntas)
    • Equipo para medidas TRR (Time Resolved Reflectivity)
    • Microscopio óptico digital; Optika DM (x10, x 40, x100)
    • Lector de microplacas; Biorad iMARK (415, 450, 490, 595, 655 y 750 nm)
    • Microbalanza; COBOS (max. 320 g , +/- 1 mg)
    • Microscopio invertido; Nikon Eclipse TS 100 (x10, x20, x40)
    • Ph meter Crison Basic 20
    • Conductivity Meter CRISON CM35+ con célula 50 60 (10 nS/cm - 500 mS/cm)
    • Termómetro IR, Sam Outillage
    • Cámara Termográfica; testo 881 (Obj.: 7, 5 mm, 25 mm; Sens. <50mK; -20 - 550 ºC)


Acceso rutinario a los siguientes equipos de caracterización ubicados en el C.A.C.T.I.:

    • Micro-FTIR (transmisión, reflección, ATR); Nicolet 6700 con Nicolet Continuum
    • Micro-HR-Raman con microscopio confocal ( < 50 mW @ 488, 532, 633 y 785 nm );
      Horiba Jobin Yvon LAbRam-HR800
    • Elipsómetro espectroscópico ( 190-2100 nm ); Horiba UVISEL
    • UV-VIS; HP845A Diode array
    • 2 XRD; Siemens D5000, XPert-Pro
    • Preparación de muestras para SEM y TEM (cortadoras, pulidoras, PIPS691,...)
    • FIB; FEI Helios NanoLab con Omniprobe y EBSD (Electron backscattered diffraction)
    • 2 SEM; Philips XL30 (con EDS y WDS), JEOL JSM-6700F (Emisión de Campo con EDS)
    • 2 TEM; Philips CM20, JEOL JEM-2010 (Emisión de Campo, con EDS, STEM y EELS)
    • SPM (Scanning Probe Microscope) AFM: Veeco Nanoscope V, Topometrix Explorer y Discoverer
    • 2 XPS/Auger; VG Thermo ESCALAB 250 iXL, K-Alpha
    • TOF-SIMS;ION-TOF TOF-SIMS IV (Cañón de Análisis Poliatómico Bismuto)
    • Nanoindenter; MTS Nanoindenter XL
    • Perfilómetro Interferométrico; Wyko NT-1100
 
  • Computación
 
    • Diversos PC para experimentación, dotados de tarjetas de adquisición y procesamiento de datos
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última actualización: 07-04-2013 (newmaterials@uvigo.es)